儀器簡介

RADOM (拉多姆) 專注等離子體技術(shù)領(lǐng)域，為分析儀器、清潔技術(shù)和制氫、固氮等行業(yè)提供可持續(xù)和創(chuàng)新的解決方案。在過去15年中，RADOM 的科學(xué)家們專注于等離子體技術(shù)的改革創(chuàng)新，開發(fā)出一種高度差異化的等離子體技術(shù)，目前已在全球多個國家和地區(qū)獲得知識產(chǎn)權(quán)保護。

該技術(shù)能夠產(chǎn)生強大且可持續(xù)的等離子體，用于ICP-OES的突破性等離子體發(fā)生器無需水回路、冷卻器或散熱器，更有100 kW 高功率發(fā)生器選項。這種可擴展、無電極的設(shè)計提供了高的效率，旨在提高安全性、降低運營成本并減少環(huán)境污染，為大規(guī)模工業(yè)和環(huán)境應(yīng)用打開了大門。

RADOM 開發(fā)的高性能等離子體發(fā)生器，可以將空氣、N₂、CO₂、H₂、水蒸氣等氣體加熱至等離子體狀態(tài)，溫度超過5500℃，能夠為科研實驗室提供緊湊、易用、可靠且經(jīng)濟實惠的等離子體解決方案，滿足等離子體與材料科學(xué)研究的迫切需求。廣泛應(yīng)用于材料加工、表面活化改性、滅菌、氣化、NOx可控合成、等離子體刻蝕、鍍膜與噴涂等領(lǐng)域。

主要特點

配套 ICP-MS 使用的RADOM等離子體源，可直接替換原有氬離子源，重構(gòu)激發(fā)環(huán)境，突破傳統(tǒng)分析邊界：
■ 依托十余年成熟的 Cerawave“瓷能環(huán)"技術(shù)，形成穩(wěn)定且高性能的等離子體，基體耐受性更強；
■ 無氬工作環(huán)境，從源頭消除氬基多原子離子干擾，大幅提升檢測精度與數(shù)據(jù)可靠性；
■ 特別適合39K/40Ca/56Fe/75As/80Se等同位素高精度分析，無需依賴碰撞/反應(yīng)池或冷等離子體技術(shù)；
■ 模塊化設(shè)計實現(xiàn)與原氬離子源切換自如，優(yōu)化后的RF系統(tǒng)有效降低高壓負載，增強耐用性，做到低維護；
■ 對于因離子源故障（尤其RF模塊）而年久失修的ICP-MS，能夠使其煥發(fā)新生；
■ 兼容多種 ICP-MS 采樣口，適合基于四極桿、飛行時間（TOF）及激光剝蝕（LA）等研究探索的質(zhì)譜實驗室。